Artigo De: orcid, cienciavitae
Effect of Annealing on Al Diffusion and its Impact on the Properties of Ga2O3 Thin Films Deposited on c‐Plane Sapphire by RF Sputtering
physica status solidi (RRL) – Rapid Research Letters
2025
—Informações chave
Autores:
Publicado em
14/04/2025
Detalhes da publicação
Autores da comunidade :
Ana Sofia Camões de Sousa
ist196508
Duarte Magalhães Esteves
ist187315
Luís Filipe da Silva dos Santos
ist12589
Versão da publicação
AO - Versão original do autor
Título do contentor da publicação
physica status solidi (RRL) – Rapid Research Letters
Domínio Científico (FOS)
physical-sciences - Física
Idioma da publicação (código ISO)
eng - Inglês
Identificador alternativo (URI)
https://doi.org/10.1002/pssr.202500053
Acesso à publicação:
Acesso apenas a metadados