Artigo De: orcid, scopus

N2–H2 capacitively coupled radio-frequency discharges at low pressure: II. Modeling results: the relevance of plasma-surface interaction

Plasma Sources Science and Technology

Jiménez-Redondo M.; Chatain A.; Marques L. — 2020

Informações chave

Autores:

Jiménez-Redondo M.; Chatain A.; Guaitella O.; Cernogora G.; Carrasco N.; Alves L.L. (Luís Paulo Da Mota Capitão Lemos Alves); Marques L.

Publicado em

01/08/2020

Detalhes da publicação

Autores da comunidade :

Título do contentor da publicação

Plasma Sources Science and Technology

Volume

29

Fascículo

8

DOI

10.1088/1361-6595/ab9b1b

Domínio Científico (FOS)

physical-sciences - Física

Idioma da publicação (código ISO)

eng - Inglês

Acesso à publicação:

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